Skip to main content

Open Access STUDI BANDING PELAPISAN MATERIAL SKD11 DENGAN METODE PHYSICAL VAPOUR DEPOSITION DAN THERMAL DIFUSION PADA KOMPONEN INSERT DIES MESIN STAMPING PRESS

Download Article:

The full text article is available externally.

The article you have requested is supplied via the DOAJ. View from original source.

This article is Open Access under the terms of the Creative Commons CC BY-NC licence.

Telah dilakukan pelapisan menggunakan Titanium Alumunium Nitrid (TIAlN) dengan metode PVD Coating (Physical Vapour Diposition) dan TD (Thermal Difusion)  untuk perlakuan permukaan baja perkakas SKD11 sebagai material Insert Die komponen mesin Stamping Press setelah perlakuan hardening. Perlakuan permukaan dimaksudkan untuk meningkatkan kualitas permukaan khususnya kekerasan dan perubahan struktur mikro yang terjadi. Untuk mengetahui tingkat keberhasilan dari perlakuan permukaan tersebut dilakukan dengan memvariasi waktu proses, masing masing 2 sample diproses pada 4 jam, 5 jam dan 6 jam dengan temperatur  proses masing-masing  400ᴼ C. Kemudian satu dari tiap variable sample tersebut di panaskan pada suhu 1000ᴼ C selama 1 jam, pendinginan dilalukan dengan udara bebas tanpa proses quenching Untuk mengetahui hasilnya dilakukan uji kekerasan mikro Vickers, pengamatan struktur mikro Scanning Eectron Microscope (SEM), dan pengujian komposisi dengan Energy Defersif Sepectroscopy (EDS) untuk mengetahui tingkat penyerapan material terdifusi. Hasil menunjukan bahwa SKD11 yang dilapisi TiAlN dengan metode PVD selama 6 jam menghasilkan lapisan yang paling keras yaitu 1363 HV dengan ketebalan lapisan 5,3µm. Proses pemanasan 1000⁰C selama 1 jam pada sample mengakibatkan penurunan kekerasan sample dan lapisan permukaan sample menjadi lebih tebal hingga 50µm. Penambahan lapisan diakibatkan oleh terdifusinya atom atom yang menyusun lapisan TiAlN ke dalam substrat serta keluarnya atom atom penyusun lapisan hingga membentuk lapisan kompleks.

Document Type: Research Article

Affiliations: Universitas Mercu Buana

Publication date: 01 January 2017

  • Access Key
  • Free content
  • Partial Free content
  • New content
  • Open access content
  • Partial Open access content
  • Subscribed content
  • Partial Subscribed content
  • Free trial content