DAF for Polishing UASB Effluent

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Abstract:

Este trabalho apresenta uma avaliação da flotação por ar dissolvido sob pressão - FAD como sistema de póstratamento para efluentes de reatores anaeróbios de fluxo ascendente. O procedimento operacional incluiu uma etapa de mistura rápida, seguida de floculação e flotação em escala de bancada, empregando sulfato de alumínio como coagulante. Foram avaliados a influência das condições do pré-tratamento, como faixa de dosagem ótima de coagulante e tempo de floculação, e a influência dos parâmetros de processo da flotação, como a taxa de aplicação superficial e a taxa de recirculação. A eficiência do processo foi avaliada pelas determinações de turbidez, pH, alcalinidade, sólidos em suspensão totais, DQO e ortofosfato, nas amostras brutas e tratadas.

A dosagem ótima de coagulante pareceu ser muito influenciada pela alcalinidade presente nas amostras. Todavia, foi observado que o ajuste do pH de coagulação poderia, a um só tempo, reduzir as dosagens de coagulante aplicadas com manutenção do mesmo nível de desempenho da FAD. O tempo de floculação foi influenciado pelas características do material particulado presente nesse tipo de efluente, sendo que valores na faixa de 10 minutos foram suficientes.

Foram obtidas elevadas remoções para taxas de aplicação até 8,1 m3/m2.h. Entretanto, ao ser duplicada a taxa de aplicação para 16,2 m3/m2.h. notou-se considerável redução na eficiência do processo. O emprego de uma taxa de recirculação de 5% não obteve sucesso, sendo necessários valores na faixa de 10% a 20% para garantir a razão ar/sólidos e a dosagem de ar adequados.

A FAD, em condições operacionais adequadas, alcançou elevada eficiência, com remoções de 79% para turbidez, 73% para DQO, 74% para sólidos em suspensão e 99% para ortofosfato filtrado, produzindo um efluente com 7 uT de turbidez, 77 mg/L de DQO, 16 mg/L de sólidos em suspensão e 0,25 mg PO4 −3/L de ortofosfato filtrado.

Document Type: Research Article

DOI: http://dx.doi.org/10.2175/193864701790859995

Publication date: January 1, 2001

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